RTR 等离子除胶渣机 FLEX-VC-PS-500R
卷对卷产品设备优势显著:宽幅适用、纠偏精准、密封独特等多特性集于一身
产品介绍
本设备主要用于 RTR 除胶渣清洁制程,设备可单列 250mm 或单列 520mm 搭配功能,采用磁流体轴密封装置,主要用于 RTR UV 镭射之通孔或盲孔制程中孔内胶渣清洁,为后工序电镀提高良率保证,同时可以用于 RTR 显影制程之后的残膜清洁,精细线路因存在残膜导致后续蚀刻的开短路,采用 RTR plasma 清洁,可提高镀铜及线路良率。
详细说明
优势:
• 适用 250mm~520mm 宽幅的卷对卷产品
• 真空腔体内 EPC 纠偏控制,保证收料精度 ±0.5mm
• 专利磁流体密封结构
• 卷对卷恒张力恒速度控制
• 独立等离子反应区隔离,减小等离子对其他机构的影响
• 传动件及绝缘件均采用高频陶瓷材质
产品信息
该卷对卷产品设备优势众多。适用250mm - 520mm宽幅,真空腔EPC纠偏控制保证收料精度±0.5mm。有专利磁流体密封结构,实现恒张力恒速度控制。独立等离子反应区隔离,传动件及绝缘件用高频陶瓷材质,能有效减小等离子影响,保障产品生产质量。